• 发文章

  • 发资料

  • 发帖

  • 提问

  • 发视频

创作活动
0
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
返回

电子发烧友 电子发烧友

  • 全文搜索
    • 全文搜索
    • 标题搜索
  • 全部时间
    • 全部时间
    • 1小时内
    • 1天内
    • 1周内
    • 1个月内
  • 默认排序
    • 默认排序
    • 按时间排序
大家还在搜
  • 标准清洗液sc1成分是什么

    标准清洗液SC-1是半导体制造中常用的湿法清洗试剂,其核心成分包括以下三种化学物质:氨水(NH₄OH):作为碱性溶液提供

    2025-08-26 13:34 芯矽科技 企业号

  • 清洗液不能涂的部位有哪些

    在硅片清洗过程中,某些部位需避免接触清洗液,以防止腐蚀、污染或功能失效。以下是需要特别注意的部位及原因:一、禁止接触清洗液的部位1.金属互连线与焊垫(MetalInterconnects&

    2025-07-21 14:42 芯矽科技 企业号

  • 适用于任何化学成分的简单电池充电器IC

    许多电池供电设备通常需要各种各样的充电源、电池化学成分、电压和电流。例如,工业、高端、功能丰富的消费类、医疗和汽车电池充电器电路需要更高的电压和电流,因为所有类型的电池化学成分都出现了更新的大型电池组。

    2022-12-22 15:16

  • 多功能IC可实现独立于化学成分的电池充电

    快速移动的电池技术给设计人员提出了一个问题:是选择最新技术以获得最大性能,还是为了成熟、更可靠的技术而牺牲性能。独立于化学成分的电池充电器的出现有助于解决这个问题。

    2023-01-11 14:12

  • 半导体清洗液中溶解氢气对晶圆清洗的影响

    在最近的半导体清洁方面,以生物碱为基础的RCA清洁法包括大量的超纯和化学液消耗量以及清洁时多余薄膜的损失; 由于环境问题,对新的新精液和清洁方法的研究正在积极进行。 特别是在超纯水中混合气体,利用Megasonic进行功能水清洁,是为了解决传统RCA清洁液存在的问

    2022-04-14 16:06

  • 半导体rca清洗都有什么药液

    半导体RCA清洗工艺中使用的主要药液包括以下几种,每种均针对特定类型的污染物设计,并通过化学反应实现高效清洁:SC-1(碱性清洗液

    2025-09-11 11:19 芯矽科技 企业号

  • 基于RCA清洗系统的热模型以及清洗液的温度控制法

    半导体制造工序的硅晶圆的清洗中,RCA清洗法被很多企业使用。RCA清洗方法是清洗硅片的行业标准方法,其中

    2022-04-15 14:55

  • Si晶圆表面金属在清洗液中的应用研究

    使用,为了提高表面的清洁度,进行了清洗法的改良,降低使用的超纯水、药品中的污染等方面的努力。今后为了进一步提高表面清洁度,有必要比以前更多地减少工艺中的污染,但这并不是把污染金属集中起来处理,而是考虑到每个元素在液体中的行为不同,在本文中,介绍了关于Si晶圆表面金属在清洗

    2022-03-28 15:08

  • 硅藻土对印制板组装件清洗废液处理的浅析

    利用硅藻土和稀硫酸溶液对电路板组装件的废清洗液进行处理,并对处理前后的废清洗液进行 FTIR、UV以及水质分析等测试。由类似的FTIR、UV光谱分析可知处理前后的废清洗液中均含部分

    2023-04-12 11:14

  • 超声波清洗机怎样进行清洗工作?超声波清洗机的清洗步骤有哪些?

    超声波清洗机通过使用高频声波(通常在20-400kHz)在清洗液中产生微小的气泡,这种过程被称为空化。这些气泡在声压波的影响下迅速扩大和破裂,产生强烈的冲击力,将附着在物体表面的污垢剥离。以下

    2025-05-21 17:01 科伟达超声波清洗设备 企业号