在最近的半导体清洁方面，以生物碱为基础的RCA清洁法包括大量的超纯和化学液消耗量以及清洁时多余薄膜的损失； 由于环境问题，对新的新精液和清洁方法的研究正在积极进行。 特别是在超纯水中混合气体，利用Megasonic进行功能水清洁，是为了解决传统RCA清洁液存在的问题而进行的清洁液。
2022-04-14 16:06
使用，为了提高表面的清洁度，进行了清洗法的改良，降低使用的超纯水、药品中的污染等方面的努力。今后为了进一步提高表面清洁度，有必要比以前更多地减少工艺中的污染，但这并不是把污染金属集中起来处理，而是考虑到每个元素在液体中的行为不同，在本文中，介绍了关于Si晶圆表面金
2022-03-28 15:08
在半导体制造工序的硅晶圆的清洗中，RCA清洗法被很多企业使用。RCA清洗方法是清洗硅片的行业标准方法，其中
2022-04-15 14:55
超声波清洗机通过使用高频声波(通常在20-400kHz)在清洗液中产生微小的气泡，这种过程被称为空化。这些气泡在声压波的影响下迅速扩大和破裂，产生强烈的冲击力，将附着在物体表面的污垢剥离。以下
2025-05-21 17:01 科伟达超声波清洗设备 企业号
