在半导体器件的制造过程中，由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物（颗粒），1/3的制造过程被称为清洗过程。在半导体器件中，通常进行RCA清洁，其中半导体器件以一
2022-04-20 16:10
本文中，为了在半导体制造中的平坦化工艺，特别是在形成布线层的工程中实现CMP后的高清洁面，关于湿法清洗所要求的功能和课题，关于适用新一代布线材料时所担心的以降低腐蚀及表面粗糙度为焦点的清洗技术，介绍了至今为止的成果和
2022-04-20 16:11
在现代工业中，清洗设备的选择直接影响着生产效率和产品质量。尤其是超声波清洗设备，因其优异的清洗效果而受到广泛关注。然而，随着市场竞争的加剧，如何选择合适的超声波清洗设备
2025-07-04 16:11 科伟达超声波清洗设备 企业号
在今天的制造业中，清洗被视为电子制造业的重要部分。超声波清洗设备是清洗技术中的重要设备，可以用于几乎任何材料的清洗，从金属到玻璃，从橡胶到陶瓷。但是不同大小的
2025-07-24 16:39 科伟达超声波清洗设备 企业号
CMP装置被应用于纳米级晶圆表面平坦化的抛光工艺。抛光颗粒以各种状态粘附到抛光后的晶片表面。必须确实去除可能成为产品缺陷原因的晶圆表面附着物，CMP后的清洗技术极为重要。在本文中，关于半导体制造工序
2022-04-18 16:34
，超声波清洗机到底能清洗哪些物品呢？本文将为您全面解析其在多领域的应用，让您对超声波清洗机有一个更加系统、深入的理解。一、电子和半导体行业在电子和
2025-05-19 17:14 科伟达超声波清洗设备 企业号
