电子发烧友

型号：NBC-465C ；NBC-800C 品牌：

半导体设备用治具的清洗炉（Vacuum Bake Cleaner）●该设备用于去除附着在 MOCVD 托盘和零部件上的沉积物（GaN、AlN 等）。采用洁净气体的干式清洗法，因此不需要湿法后道处

2022-01-14 14:21 芯茂（嘉兴）半导体科技有限公司 企业号

型号：bdtqxjsb 品牌：

在半导体制造的精密链条中，半导体清洗机设备是确保芯片良率与性能的关键环节。它通过化学或物理手段去除晶圆表面的污染物（如颗粒、有机物、金属离子等），为后续制程提供洁净的基底。本文将从设备定义、核心特点

2025-06-25 10:31 芯矽科技 企业号

型号：bdtsfqxsb 品牌：

半导体湿法清洗是芯片制造过程中的关键工序，用于去除晶圆表面的污染物（如颗粒、有机物、金属离子、氧化物等），确保后续工艺的良率与稳定性。随着芯片制程向更小尺寸（如28nm以下）发展，湿法

2025-06-25 10:21 芯矽科技 企业号

型号：华太<b class='flag-s-7'>半导体</b> 品牌：

咨询请看首页华太半导体（HOTTEK-SEMI）是一家专业电容式触控方案设计公司，拥有专业软件研发团队。HOTTEK-SEMI推出的新一代触摸MCU性能卓越：可多次重复编程（MTP），防水，抗干扰强

2025-05-20 16:11 华太半导体（深圳）有限公司 企业号

型号：RNK 品牌：

PFA清洗槽一、产品介绍PFA清洗槽又叫PFA方槽、酸缸。是即四氟清洗桶后的升级款，专为半导体光伏光电等行业设计的，一体成型。主要用于浸泡、

2022-09-01 13:25 瑞尼克科技 企业号

型号：yqxj 品牌：

预清洗机（Pre-Cleaning System）是半导体制造前道工艺中的关键设备，用于在光刻、蚀刻、薄膜沉积等核心制程前，对晶圆、掩膜板、玻璃基板等精密部件进行表面污染物（颗粒、有机物、金属残留等

2025-06-17 13:27 芯矽科技 企业号

型号：yydy 品牌：

半导体药液单元（Chemical Delivery Unit, CDU）是半导体前道工艺（FEOL）中的关键设备，用于精准分配、混合和回收高纯化学试剂（如蚀刻液、清洗液

2025-06-17 11:38 芯矽科技 企业号

型号：sfqxsb 品牌：

苏州芯矽电子科技有限公司（以下简称“芯矽科技”）是一家专注于半导体湿法设备研发与制造的高新技术企业，成立于2018年，凭借在湿法清洗领域的核心技术积累和创新能力，已发展成为国内半导体

2025-06-06 14:25 芯矽科技 企业号

型号：IGBT及第三代<b class='flag-s-7'>半导体</b>器件全参数测试 品牌：广电计量

服务范围MOSFET、IGBT、DIODE、BJT，第三代半导体器件等分立器件，以及上述元件构成的功率模块。检测标准l  AEC-Q101分立器件认证l  MIL-STD-750

2024-01-29 22:00 广电计量 企业号

型号：dpqxj 品牌：

在半导体制造工艺中，单片清洗机是确保晶圆表面洁净度的关键设备，广泛应用于光刻、蚀刻、沉积等工序前后的清洗环节。随着芯片制程向更高精度、更小尺寸发展，单片

2025-06-06 14:51 芯矽科技 企业号