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在半导体器件的制造过程中，由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物（颗粒），1/3的制造过程被称为清洗过程。在半导体器件中，通常进行RCA清洁，其中

2022-04-20 16:10

好奇，一台“清洗机”究竟有多重要?本文将带你了解：全自动半导体晶片清洗机的技术原理、清洗流程、设备构造，以及为什么它是芯

2025-06-24 17:22 科伟达超声波清洗设备 企业号

引言 碳化硅（SiC）作为一种宽禁带半导体材料，因其出色的物理和化学性质，在电力电子、微波器件、高温传感器等领域具有广泛的应用前景。然而，在SiC晶片的制备和加工过程中，表面金属残留成为了一个

2025-02-06 14:14 广州万智光学技术有限公司 企业号

，贴膜后的清洗过程同样至关重要，它直接影响到外延晶片的最终质量和性能。本文将详细介绍碳化硅外延晶片硅面贴膜后的清洗方法，包括其重要性、常用

2025-02-07 09:55 广州万智光学技术有限公司 企业号

半导体清洗设备的选型是一个复杂的过程，需综合考虑多方面因素以确保清洗效果、效率与兼容性。以下是关键原则及实施要点：污染物特性适配性污染物类型识别：根据目标污染物的种类（如颗粒物、有机物、金属离子或

2025-08-25 16:43 芯矽科技 企业号

作为用于高寿命蓝色LD (半导体激光器)、高亮度蓝色LED (发光二极管)、高特性电子器件的GaN单晶晶片，通过hvpe (氢化物气相)生长法等进行生长制造出了变位低的自立型GaN单晶晶片。GaN

2022-04-15 14:50

半导体RCA清洗工艺中使用的主要药液包括以下几种，每种均针对特定类型的污染物设计，并通过化学反应实现高效清洁：SC-1（碱性清洗液）成分组成：由氢氧化铵（NH₄OH）、过氧化氢（H₂O₂）和去离子水

2025-09-11 11:19 芯矽科技 企业号

半导体清洗机的循环泵是确保清洗液高效流动、均匀分布和稳定过滤的核心部件。以下是其正确使用方法及关键注意事项：一、启动前准备系统检漏与排气确认所有连接管路无松动或泄漏（可用肥皂水涂抹接口检测气泡

2025-07-29 11:10 芯矽科技 企业号

半导体清洗机中氮气排放的系统化解决方案，涵盖安全、效率与工艺兼容性三大核心要素：一、闭环回收再利用系统通过高精度压力传感器实时监测腔室内氮气浓度，当达到设定阈值时自动启动循环模式。采用活性炭吸附柱

2025-07-29 11:05 芯矽科技 企业号

在这数字化飞速发展的现代社会，半导体行业已经成为科技进步的中流砥柱。而要保证这些半导体元件的高性能和可靠性，清洁度是一个至关重要的因素。这时候，超声波真空清洗机就像超级英雄一般，悄悄地解决了这个

2025-09-08 16:52 科伟达超声波清洗设备 企业号