。 PVD 沉积工艺在半导体制造中用于为各种逻辑器件和存储器件制作超薄、超纯金属和过渡金属氮化物薄膜。最常见的 PVD 应用是铝板和焊盘金属化、钛和氮化钛衬垫层、阻挡层
2023-05-26 16:36
半导体知识：PVD金属沉积制程讲解
2019-07-24 11:47
薄膜沉积技术主要分为CVD和PVD两个方向。 PVD主要用来沉积金属及金属化合物薄膜,分为蒸镀和溅射两大类，目前的主流工艺为溅射。CVD主要用于介质/半导体薄膜，广泛用
2023-12-05 10:25
在半导体封装的bumping工艺中，PVD（Physical Vapor Deposition，物理气相沉积）溅射技术扮演了一个非常关键的角色。Bumping工艺，即凸
2024-11-14 11:32 北京中科同志科技股份有限公司 企业号
[半导体前端工艺：第二篇] 半导体制程工艺概览与氧化
2023-11-29 15:14
半导体晶圆制造是现代电子产业中不可或缺的一环，它是整个电子行业的基础。这项工艺的流程非常复杂，包含了很多步骤和技术，下面将详细介绍其主要的制造工艺流程。第一步：晶圆生长晶圆生长是
2024-12-24 14:30 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38
详解半导体封装测试工艺
2023-05-31 09:42
