截至目前，中微公司已经成为全球半导体刻蚀设备 5 大供应商之一，拥有1755 项专利，并且其自主研发的5nm刻蚀机已经正式应用于台积电5nm生产线，3nm
2021-04-29 15:04
但在过去，由于大陆并不具备可量产半导体刻蚀设备的能力，基本上都是依靠进口，而美欧等国为防止中国半导体产业的进步，多年以来一直对该领域实行技术封锁。由于
2018-12-21 15:59
其实在半导体湿法刻蚀整个设备中有一个比较重要部件，或许你是专业的，第一反应就是它。没错，加热器！但是也有不少刚入行，或者了解不深的人好奇，半导体湿法
2024-12-13 14:00
半导体湿法刻蚀残留物的原理涉及化学反应、表面反应、侧壁保护等多个方面。 以下是对半导体湿法刻蚀残留物原理的详细阐述： 化学反应
2025-01-02 13:49
半导体BOE（Buffered Oxide Etchant，缓冲氧化物蚀刻液）刻蚀技术是半导体制造中用于去除晶圆表面氧化层的关键工艺，尤其在微结构加工、硅基发光器件制作及氮化硅/二氧化硅
2025-04-28 17:17
据浦东时报报道，2020年开年，中微半导体成功中标长江存储9台刻蚀设备订单。
2020-01-08 10:49
在半导体制程工艺中，有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺，如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉，“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料，从而创建所需的微细图
2023-06-15 17:51
该专利详细阐述了一种针对含硅有机介电层的高效刻蚀方法及相应的半导体工艺设备。它主要涉及到通过交替运用至少两个刻蚀步骤来刻蚀
2023-12-06 11:58
什么是刻蚀？刻蚀是指通过物理或化学方法对材料进行选择性的去除，从而实现设计的结构图形的一种技术。蚀刻是半导体制造及微纳加工工艺中相当重要的步骤，自1948年发明晶体管到现在，在微电子学和
2024-12-20 16:03 Piezoman压电侠 企业号
