W刻蚀工艺中使用SF6作为主刻步气体，并通过加入N2以增加对光刻胶的选择比，加入O2减少碳沉积。在W回刻工艺中分为两步，第一步是快速均匀地刻掉大部分W，第二步则降低刻蚀速率减弱负载效应，避免产生凹坑，并使用对TiN有高选择比的化学气体进行刻蚀。
2023-12-06 09:38
英飞凌的数字控制方案基于自有的数字核CPU，结合强大的功率半导体制造技术，将两者有机的集成在一起，创新了业界领先的数字LED驱动IC技术
2018-09-15 09:18
微机电系统（MEMS， Micro-Electro-MechanicSystem）是一种先进的制造技术平台。它是以半导体制造技术为基础发展起来的。MEMS更侧重于超精密
2013-01-22 16:50
微加工已经成为一项关键技术传感器的小型化。能够通过使用标准的半导体制造技术，减少传感元件的尺寸允许显着减小尺寸。积分信号处理沿着感测元件进一步增强了机会，以减少系统的大小，省去了额外的引脚链接到外部设备。
2018-02-05 16:00
在这篇文章中，我们将学习基本的半导体制造过程。为了将晶圆转化为半导体芯片，它需要经历一系列复杂的制造过程，包括氧化、光刻、刻蚀、沉积、离子注入、金属布线、电气检测和封装等。
2024-10-16 14:52
半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38
MEMS全称为微型电子机械系统（Micro-Electro-MechanicalSystem），是在微电子技术（半导体制造技术）基础上发展起来，融合了微电子加工工艺和精密机械加工等
2020-07-14 11:51
半导体制造设备对振动极为敏感，不同的设备及工艺对振动标准要求也有所不同。一般来说，无尘车间半导体制造设备的振动标准主要从振动频率、振幅等方面进行考量： 1，光刻设备 （1）振动频率：通常要求在
2025-01-02 15:29 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
