光刻是半导体工业的核心技术。自1960年Fairchild Semiconductor的罗伯特·诺伊斯发明单片集成电路以来，光刻一直是主要的光刻技术。
2022-11-14 11:36
半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38
本发明涉及一种去除光刻胶的方法，更详细地说，是一种半导体制造用光刻胶去除方法，该方法适合于在半导体装置的制造过程中进行吹扫以去除
2022-04-13 13:56
半导体设备光刻机防震基座的安装涉及多个关键步骤和考虑因素，以确保光刻机的稳定运行和产品质量。首先，选择合适的防震基座需要考虑适应工作环境。由于半导体设备通常在洁净的环境
2025-02-05 16:48 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
半导体芯片制作分为 IC 设计、 IC 制造、 IC 封测三大环节， 光刻作为 IC 制造的核心环节，其主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上。 由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平
2019-01-08 11:02
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，
2018-04-08 16:10
半导体设备安装防震装置主要有以下几方面原因：一、高精度加工要求1,光刻工艺(1)光刻是半导体制造的关键步骤，其精度要求极高。例如，在芯片制造中，
2025-02-05 16:48 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
光刻胶按照种类可以分为正性的、负性的。正胶受到紫外光照射的部分在显影时被去除，负胶受到紫外光曝光的地方在显影后被留下。
2024-04-24 11:37
在万物互联，AI革命兴起的今天，半导体芯片已成为推动现代社会进步的心脏。而光刻(Lithography)技术，作为先进制造中最为精细和关键的工艺，不管是半导体芯片、MEMS器件，还是微纳光学元件都离不开
2024-08-26 10:10
