化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD）是指不同分压的多种气
2022-11-04 10:56
：物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（CVD），其中CVD工艺设备占比
2024-03-28 14:22
虽然在商用化学气相沉积设备中可以在一次运行中实现多片4H－SiC衬底的同质外延生长，但是必须将晶片装载到可旋转的大型基座上，这导致基座的直径随着数量或者外延晶片总面积的
2020-12-26 03:52
审核编辑：彭静
2022-11-03 10:00
机理出发,结合反应 室设计和材料科学的发展,介绍了化学气相沉积(CVD)法碳化硅外延设备反应室、加热系统和旋转系统等的技术进 展,最后分析了 CVD 法碳化硅外延设备未
2023-02-16 10:50
浙江大和半导体产业园三期建设项目由浙江盾源聚芯半导体科技有限公司和浙江富乐德半导体材料科技有限公司投资建设，总投资近20亿元。浙江盾源聚芯半导体科技有限公司将导入高纯硅部件项目，为不断增长的国产化半导体装备需求提供支持。
2023-08-09 16:20
