控制外延层的掺杂类型和浓度对 SiC 功率器件的性能至关重要,它直接决定了后续器件的比导通电阻,阻断电压等重要的电学参数。
2022-04-11 13:44
微量掺杂元素在半导体器件的发展中起着至关重要的作用,可以精准调控半导体的电学、光学性能。对器件中微量掺杂元素的准确表征和分析是深入理解半导体
2025-04-25 14:29
CMOS工艺平台的Poly 方块电阻有四种类型的电阻,它们分别是n型金属硅化物 Poly 方块电阻、P型金属硅化物 Poly 方块电阻、n 型非金属硅化物 Poly 方
2024-11-29 11:06
掺杂对PN结伏安特性的影响是半导体物理学中的一个重要议题。PN结作为半导体器件的基础结构,其性能在很大程度上取决于掺杂浓度、掺杂类型以及
2024-07-25 14:27
考虑到许多读者可能对Poly并不了解,而且许多Poly文献读起来也比较抽象,我们先简单介绍一下Poly的工作原理。我们力图用最简单的代数与几何描述来解释Poly的基本原
2023-07-17 14:19
Nanodcal软件通过虚晶近似(Virtual Crystal Approximation,VCA)的方法实现半导体的n型或者p型掺杂。为了确保Si在中心区域的长度大于耗尽层的宽度,选用一个较长的n型掺杂NiSi2-Si器
2022-09-07 16:38
摘要:采用金掺杂替代作为深能级缺陷中心的汞空位,可明显提高P型碲镉汞材料少子寿命,进而降低以金掺杂P型材料为吸收层n-on-p型碲镉汞器件的暗电流,明显提升了n-on-p型碲镉汞
2021-06-24 16:12