EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...
2021-07-29 09:36
相比,能够以具有更高的杂质浓度和更薄的厚度的漂移层作出600V~数千V的高耐压功率器件。高耐压功率器件的阻抗主要由该漂移
2019-07-23 04:20
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下
2021-01-12 10:17
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
物理层器件时域和频域分析的局限性和精度
2019-10-08 14:48
一.功率电子器件及其应用要求功率电子器件大量被应用于电源、伺服驱动、变频器、电机保护器等功率电子设备。这些设备都是自动化
2018-05-08 10:08
的区别在于:1、 叠层的散热性更好,ESR值更小。但耐电流较绕线小。2、 绕线的散热性不如叠层,ESR值更高,但耐电流会更大。3、 叠层的成本比绕线低。了解更多电子元器件
2013-08-29 17:41
在了解Verilog语言的更多细节之前,我们最好先了解一下芯片设计中的不同抽象层。
2021-11-10 08:05
材料的精密微加工。高功率LED行业 的DPC,COB以及透明陶瓷等多种基板的精密切割划线和打孔。 2.激光适合加工各种不同种类的PCB材料,例如:FR4型覆铜箔板、涂覆铝金属层的PET膜、陶瓷、微波基材
2016-06-27 13:24