本文小编分享一篇文章，本文介绍的是原子层镀膜在功率器件行业的应用，本文介绍了原子层镀膜技术在碳化硅功率
2024-10-15 15:21
传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺（图1）。在广义上，它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。 ①光复印工艺：经曝光系统将预制在掩模版上的器件或电路图形按所要求的位置，精确传递到预涂在晶片表面或
2012-01-12 10:51
本文阐运了功率半导体器件芯片背面需要多层金属层，才能满足芯片和底座问电学和散热的要求。讨论了多层金属
2021-02-05 14:05
了光刻剂。但重大挑战仍然存在，部分原因是去除率不足以首先在半导体制造业中使用微气泡。因此，我们需要通过明确了解微气泡去除光刻抗蚀剂层的功能机制，来提高微气泡的去除能力。本研究的目的是阐明微气泡对
2022-01-10 11:37
机和光刻胶： 光掩膜：如同芯片的蓝图，上面印有每一层结构的图案。 光刻机：像一把精确的画笔，能够引导光线在光刻
2025-01-28 16:36
控制外延层的掺杂类型和浓度对 SiC 功率器件的性能至关重要，它直接决定了后续器件的比导通电阻，阻断电压等重要的电学参数。
2022-04-11 13:44
在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。 根据维基百科的定义，光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝
2020-11-11 10:14
什么是光刻？光刻是将掩模上的几何形状转移到硅片表面的过程。光刻工艺中涉及的步骤是晶圆清洗；阻挡层的形成；光刻胶应用；软烤
2022-03-15 11:38
引言 Micro OLED 作为新型显示技术，在微型显示领域极具潜力。其中，阳极像素定义层的制备直接影响器件性能与显示效果，而光刻图形的精准测量是确保制备质量的关键。白光干涉仪凭借独特
2025-05-23 09:39
前言：集成电路(芯片)是用光刻为特征的制造工艺，一层一层制造而成。所以,芯片技术中就有了“
2021-06-18 16:04
