上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清
2022-08-04 17:18 伯东企业（上海）有限公司 企业号
半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD（Liquid Crystal Display）面板制造领域，曝光机
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
，其电子束光刻设备在芯片制造的光刻工艺中起着关键作用。然而，企业所在园区周边存在众多工厂，日常生产活动产生复杂的振动源，包括重型机械运转、车辆行驶以及建筑物内部的机
2025-01-07 15:13 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
成特定的图形才能用于芯片, 因 LiNbO3 惰性特性, 使用 ICP 或 RIE 工艺无法完成刻蚀, 上海伯东 IBE 离子束刻蚀机为铌酸锂 LiNbO3 薄膜
2024-09-13 10:59 伯东企业（上海）有限公司 企业号
工作原理单节锂电池供电，通过BOOST电路升压到15V，单片机PWM输出100KHz频率控制Boost升压，AD采样输出电压作为反馈，单片机根据反馈电压调整PWM占空比，保证输出电压稳定。DCDC
2024-07-16 10:02 深圳市澜起智能科技有限公司 企业号
