翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
单面板的设计制造，单面板的主体是坚硬的绝缘材料，是环氧树脂玻璃纤维或者FR4，称之为基板，铜材料通过胶粘或者电沉积的方式贴在电路板的一面称为顶面。 光刻技术原理过程： 1、铜金属层包覆上一种叫做
2024-06-16 11:17
深圳市宝安区拓久柘电子科技公司招单片机工程师2名:1、从事触摸屏、电子白板相关电子产品的硬件程序开发工作； 2、USB单片机编程、调试、修改BUG等工作； 3、编写设计制造文档并为
2014-05-09 09:22
的光刻机厂家就剩下ＡＳＭＬ。ASML是荷兰飞利浦公司的半导体部门拆分出来的独立公司（飞利浦半导体部门拆分出的另一家公司是ＮＸＰ恩智浦，最近美国高通
2018-06-13 14:40
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
芯片是如何制造的？CPU是如何设计出来的？
2021-11-01 06:39
PCB上这种指纹的图案露铜是怎么实现的？
2025-02-10 17:52
