按照基本工艺制程技术的类型，BiCMOS 工艺制程技术又可以分为以 CMOS 工艺制程
2024-07-23 10:45
1986年，意法半导体（ST）公司率先研制成功BCD工艺制程技术。BCD工艺制程技术就是把BJT，CMOS和DMOS器件同时制作在同一芯片上。BCD工艺
2024-07-19 10:32
BCD 工艺制程技术只适合某些对功率器件尤其是BJT 或大电流 DMOS 器件要求比较高的IC产品。BCD 工艺制程技术的工艺步骤中包含大量工艺是为了改善 BJT 和
2024-07-22 09:40
PMOS（Positive channel Metal Oxide Semiconductor，P 沟道金属氧化物半导体）工艺制程技术是最早出现的MOS 工艺制程技术，
2024-07-18 11:31
变频率［18］［19］等，其他蚀刻空气柱状结构所需的蚀刻制程以及离子布植法同样需要的金属电极制程也都与氧化局限技术中采用的制程参数相同，因此本节将针对氧化局限面射型雷射
2025-01-21 11:38
Intel近几年对于芯片制程工艺的发展令人叹为观止，规划从Intel 10制程开始，逐步有序进入到Intel 7和Intel 4技术节点，然后就是 Intel 3、Intel 20A 和最新的Intel 18A
2023-03-15 09:53
LED光源具备多项环保优势，但早期产品在散热处理与高亮度设计方面，仍存在某些技术瓶颈无法突破，但在 LED 芯片制程持续改善下，现有照明用LED的亮度输出流明更趋近于日常照明需
2011-10-24 14:18
本章主要介绍了集成电路是如何从双极型工艺技术一步一步发展到CMOS 工艺技术以及为了适应不断变化的应用需求发展出特色工艺技术的。
2024-07-17 10:09
英特尔上个月月底公布了公司有史以来最详细的制程技术路线图之一，展示了从现在到2025年乃至更远的未来，驱动新产品开发的突破性技术。本资料介绍了实现此路线图的创新技术的关
2021-08-09 10:40
DisplaySearch正式发行全球首份完整解析TFT LCD最新制程技术的DisplaySearch TFT LCD制程技术蓝图趋势报告(TFT LCD Proce
2011-12-26 09:12
