分子束外延(Molecular beam epitaxy，MBE)是一种在超高真空状态下，进行材料外延技术，下图为分子
2024-01-15 18:12
高质量的材料制备是一切器件研究的核心与基础,本篇文章主要讲述MBE的原理及制备过程｡
2025-06-17 15:05
碲镉汞材料具有截止波长在红外波段内可调节、光学吸收系数高、量子效率高等特点，是重要的红外探测器应用材料之一。近年来分子束外延生长碲镉汞技术的快速发展，使用分子
2023-09-26 09:18
HVPE主要是利用生长过程中的化学反应，如歧化反应、化学还原反应以及热分解反应等实现外延晶体薄膜的制备，具有生长温度高、源炉通气量大、生长速率大的特点，一般用来制备厚膜以及自支撑衬底，如GaN、AlN等。
2023-10-22 10:41
本文报道了中国电子科技集团公司第十一研究所（以下简称“中国电科11所”）在短/中波双色碲镉汞红外探测器组件研制方面的最新进展：通过分子束外延技术获得了高质量短/中波双色碲镉汞材料；
2021-05-24 10:49
除石墨烯外，还有许多其他的二维晶体，每一种都具有其独特的性质。有几种能天然地存在于地下的宝石中，例如工业中的一种重要润滑剂——二硫化钼。其他的二维晶体可通过分子束外延法进行制备，例如绝缘体一氮化硼，以及在与过渡金属二
2018-07-05 17:20
随着碲镉汞红外焦平面技术的发展，对碲镉汞材料的面积大小、组分均匀性以及电学性质的要求越来越高。
2023-09-20 09:36
根据工程应用的不同需求，SITP重点发展了基于碲锌镉衬底的碲镉汞液相外延（LPE）和异质衬底的大面积碲镉汞分子束外延（MBE）的材料制备技术
2020-06-01 14:57
为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。喷射炉中装有分子束源，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状
2018-05-02 15:06
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition， PVD)工艺是指采用物理方法，如真空蒸发、溅射 （Sputtering）镀膜、离子体镀膜和分子束外延等，在圆片表面形成薄膜。
2022-11-03 15:32
