想知道为啥同一光源为什么可以衍生出这么多不同工艺节点,以Intel为例,2000年用的是180nm,而现在已经是10nm了,其实光刻机决定了半导体工艺的制程工艺,光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径
2020-07-07 14:22
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...
2021-07-29 09:36
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形,经循环往复百次后,在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域,最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻,整个流程中的一个重要步骤,其实并没有
2020-09-02 17:38
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
歌尔声学股份有限公司急聘:1、汽车电子设计工程师2、MEMS MIC/SENSOR产品开发/工艺/设备/封装/FAE同时招聘2015届应届本科、硕士、博士生若干,欢迎各半导体从业人士加入简历投递地址:figo.zhao@goertek.com
2014-09-20 10:51
智慧城市新基建上市公司,疫情研判、线上交易、远程办公、在线教育……“新冠”疫情中,新型数字智能基础设施派上了用场,成为***、企业和社会越来越重视的投资方向。湖畔大学的一项调查发现:线上业务占比越高的企业,受疫...
2021-07-28 08:33
,小米9pro,oppo Reno3以及vivo X30)分别采用了什么芯片? 3协同通信的方式有哪些? 4大数据及认知无线电(名词解释) 4半导体工艺的4个主要步骤: 4简叙半导体
2021-07-26 08:31
们的投入中,80%的开支会用于先进产能扩增,包括7nm、5nm及3nm,另外20%主要用于先进封装及特殊制程。而先进工艺中所用到的EUV极紫外光刻机,一台设备的单价就可以达到1.2亿美元,可见半导体
2020-02-27 10:42
的封测,三者缺一不可,只有三方面都具备了,才会真正的产出一个芯片出来。针对这三个环节,我们对中国半导体目前所处的现状一一解说。芯片设计:目前为止,要说国内最成熟,实力最强的芯片
2019-08-10 14:36
的设备。可供应翻新半导体工艺设备包括:光刻机 步进光刻机 涂胶显影 化学湿台 沉积设备 划片及磨片设备 电子束蒸发 CVD沉积设备 刻蚀设备 离子注入机 显微镜 探针台 薄膜测厚仪 表面检测设备 键合机
2009-10-14 11:05