翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
首先，Protues的确很强大，在仿真51的时候已经见识过了，完全不需要硬件，而且可以加深对硬件的电路的认识，我的困惑有两点：1）有些芯片没有，比如我想仿真stm32，可惜没有。。。有大神知道怎么解决？2）关于Protues PCB画板，画板就要考虑到封装，要是没
2015-02-12 17:17
电压互感器的二次侧接什么？电路中某两点的电位差是由什么决定的？怎样去选择功率表的量程呢？
2021-09-24 08:22
PWM，改变LED1的亮度 （具体要改什么地方捏？只是我上面提到的两点吗？）3、我希望在改变PWM占空比的同时，将高电平的宽度显示在LCD上，它的单位应该是多少呀？ms?还是别的4、
2019-04-08 00:44
Altium18.0.11无法正常显示From-To两点的布线长度，这是软件的bug吗
2019-09-27 05:35
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻
2019-11-07 09:00
亲爱的先生，如何使用ADS2009找到微波电路中两点之间的阻抗。 以上来自于谷歌翻译 以下为原文Dear Sir, How to find the impedance between two points in microwave circuit using ADS2009.
2019-02-18 13:32
？当gfsk的输出数字码控制sdm时，产生的最大频偏应是A*fref，A是分频比的最大改变量，对于gfsk调制而言，最大频偏应是index*fm，index是调制指数，fm是调制的频率，我疑惑的是，这两个公式在两点调
2021-06-25 08:05
xilinx的basys3板子的4位7段数码管4个数字中间有两点，请问这个管脚是什么。
2015-04-13 12:51
本帖最后由 略略略略略哦 于 2021-4-9 11:19 编辑 求两点之间的电压关系，求GVP3和JYSD-3之间的电压关系，要过程最好讲下思路输入电压可用Vin代替
2021-04-09 11:19
