依托于光刻机的光罩(Litho)工艺是半导体芯片加工流程中的核心工艺，光罩的层数是影响半导体芯片工艺复杂度及加工成本的关
2023-09-21 11:40
台积电5nm及3nm的EUV光罩层数倍数增加，提供EUV光罩盒（EUV Pod）的家登受惠最大，今、明两年产能均已被大客
2020-10-26 14:50
6纳米已在第四季进入量产，EUV光罩层数较7+纳米增加一层，包括联发科、辉达、英特尔等大厂都将采用6纳米生产新一代产品。
2020-10-26 11:26
中芯国际的7nm工艺发展跟台积电的路线差不多，7nm节点一共发展了三种工艺，分别是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工艺的N7＋，前两代工艺也没用EUV光刻机，只有N7＋工艺上才开始用EUV工艺，不过光罩层数也
2020-02-28 09:49
本文介绍了什么是光罩（Mask）。 光罩（Mask），也称为掩膜版，是集成电路（IC）制造过程中核心且关键的元件之一。作为光刻技术的核心工具，
2024-12-06 09:33
)研究总监盛陵海表示。除了三星在去年年中传出急购EUV 机台，力拼2017 年底量产7 纳米，台积电在上周12 日法说会首度明确指出，在7 纳米制程第二年，就会导入EUV 减少光罩层数，至5 纳米制程全面采用EUV。
2017-01-19 10:15
证监会近日披露了对深圳市龙图光罩股份有限公司（以下简称“龙图光罩”）首次公开发行股票注册的批复，正式同意龙图光
2024-02-27 11:40
近日，证监会网站披露了关于同意深圳市龙图光罩股份有限公司（以下简称“龙图光罩”）首次公开发行股票注册的批复，同意龙图光
2024-01-08 13:58
摘 要：光罩清洗的流程以及优化，需要在实际生产运用中来完善，要保证在不影响清洗能力的情况下来优化各个工艺参数，在各种工艺清洗时的时间和MASKStage的转速来缩短清洗光罩的时间，而这个参数需要
2020-12-29 11:38
