依托于光刻机的光罩(Litho)工艺是半导体芯片加工流程中的核心工艺，光罩的层数是影响半导体芯片工艺复杂度及加工成本的关
2023-09-21 11:40
台积电5nm及3nm的EUV光罩层数倍数增加，提供EUV光罩盒（EUV Pod）的家登受惠最大，今、明两年产能均已被大客
2020-10-26 14:50
6纳米已在第四季进入量产，EUV光罩层数较7+纳米增加一层，包括联发科、辉达、英特尔等大厂都将采用6纳米生产新一代产品。
2020-10-26 11:26
中芯国际的7nm工艺发展跟台积电的路线差不多，7nm节点一共发展了三种工艺，分别是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工艺的N7＋，前两代工艺也没用EUV光刻机，只有N7＋工艺上才开始用EUV工艺，不过光罩层数也
2020-02-28 09:49
的光罩层数和工艺步骤，并且在BCD工艺上只需增加三层光罩便可实现eFlash，不仅维持了原有高压器件的高性能，也增加了具
2023-03-03 16:42
EEPROM的高性能和Flash的面积优势体现在一颗IP上，相比于两个IP的设计，大大节约了面积成本。同时，采用具有竞争力的光罩层数，三层金属最少光
2017-08-31 10:25
本文介绍了什么是光罩（Mask）。 光罩（Mask），也称为掩膜版，是集成电路（IC）制造过程中核心且关键的元件之一。作为光刻技术的核心工具，
2024-12-06 09:33
)研究总监盛陵海表示。除了三星在去年年中传出急购EUV 机台，力拼2017 年底量产7 纳米，台积电在上周12 日法说会首度明确指出，在7 纳米制程第二年，就会导入EUV 减少光罩层数，至5 纳米制程全面采用EUV。
2017-01-19 10:15
