为什么我刚买的光电光st188，A K 引脚间的电阻一千多千欧啊？我已经正接了，很有A与K E C 之间都有很大的电阻？
2012-06-09 21:30
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过
2020-03-23 09:00
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
请问有电光源工程师有电光源工程师职称的呢？需要兼职技术人员，要求有电光源职称，大专及以上学历，联系QQ：***：15626218590曹工
2016-05-31 20:48
想使用AD8605 ad8608 进行光电光电二极管前置放大器的设计 它的外围电路该如何设计 比如 Cf Rf 还有输出端滤波等等 有没有相关的参考设计和说明文档 谢谢
2023-11-22 06:41
为什么我刚买的光电光st188，A K 引脚间的电阻一千多千欧啊？我已经正接了，很有A与K E C 之间都有很大的电阻？
2012-06-10 08:58
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
光电晶体管和光电二极管是密切相关的电光传感器，它们在位置/存在感测、光强度测量和高速光脉冲检测等应用中可将入射光转换成电流。但是，要充分利用这些器件，设计人员需要特别注意接口电路、波长和光学机械校准
2021-01-12 07:56
