本文一般涉及处理光掩模的领域，具体涉及用于从光掩模上剥离光致抗蚀剂和/或清洗集成电路制造中使用的光
2022-04-01 14:26
9.5光掩模和光刻胶材料第9章集成电路专用材料《集成电路产业全书》下册ADT12寸全自动双轴晶圆切割机详情：切割机(划片机).ADT.823012寸全自动双轴晶圆切割机成倍提高生产率日本晶圆清洗设备
2022-02-09 09:28 深圳市致知行科技有限公司 企业号
掩膜版（Photomask），又称光罩，是芯片制造光刻工艺所使用的线路图形母版。它如同照相过程中的底片，承载着将电路图形转印到晶圆上的重要使命。掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成，通过曝光过程，将
2025-02-19 10:03
`集成电路（IC）光掩模，又称光罩、掩膜版、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体
2019-12-10 17:18
东京 - 英特尔公司和大日本印刷公司今天宣布共同开发先进的光掩模技术微处理器公司采用0.13微米工艺技术。
2019-08-12 16:20
引言 湿式光掩模清洗依赖于兆频超声波搅拌来增强工艺，但要可靠地最大化粒子去除效率并最小化损坏，还有许多挑战。随着向无薄膜EUV掩模的转变，光
2022-01-06 13:45
半导体芯科技编译 来源：Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12届年度eBeam Initiative杰出人物调查。 来自半导体生态系统（包括光掩模
2023-10-17 15:00
ExtremeUltravioletLithographyPhotomask（EUV）撰稿人：中芯国际集成电路制造有限公司郭贵琦审稿人：中芯国际集成电路制造有限公司时雪龙9.5光掩模和光刻胶材料第9
2022-02-10 09:18 深圳市致知行科技有限公司 企业号
时雪龙9.5光掩模和光刻胶材料第9章集成电路专用材料《集成电路产业全书》下册ADT12寸全自动双轴晶圆切割机详情：切割机(划片机).ADT.82301
2022-02-07 15:02 深圳市致知行科技有限公司 企业号
俄勒冈州WILSONVILLE - Mentor Graphics Corp.和KLA-Tencor公司今天宣布扩大合作用于使用亚波长光掩模改善晶圆厂产量的产品。两家公司表示，Mentor网站将提供
2019-08-13 10:31
