光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的
2023-10-24 11:43
。 02光刻技术的种类光学光刻 光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画
2019-01-02 16:32
制造集成电路的大多数工艺区域要求100级（空气中每立方米内直径大于等于0.5μm的尘埃粒子总数不超过约3500）洁净室，在光刻区域，洁净室要求10级或更高。
2024-03-20 12:36
对先进光刻掩膜光衍射的精密EMF模拟已成为预知光刻模拟的必做工作。
2012-05-04 16:28
据Pixelligent Technologies LLC表示，该公司开发出一种据称可提高现有光刻设备分辨率的纳米晶（nanocrystalline）材料，使光学光刻（Optical lithography）可扩展至
2009-06-07 18:31
根据所使用的辐射，有不同类型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、电子束光刻、x射线光刻、
2022-07-27 16:54
光刻技术的进步使得器件的特征尺寸不断减小，芯片的集成度和性能不断提高。在摩尔定律的引领下,光学光刻技术经历了接触/接近、等倍投影、缩小步进投影、步进扫描投影等曝光方式的变革。
2020-12-14 15:06
光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的
2018-04-17 16:07
在半导体芯片制造设备中，投资最大、也是最为关键的是光刻机，光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它
2018-04-10 11:26
NIL 与光学光刻的不同之处在于，NIL 使用由电子束系统图案化的主印模副本将图像直接转移到硅晶片和其他基板上。低粘度光刻胶通过喷射沉积在基板上，类似于喷墨打印机的工作方式。
2023-04-23 09:38
