。 02光刻技术的种类光学光刻 光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画
2019-01-02 16:32
对先进光刻掩膜光衍射的精密EMF模拟已成为预知光刻模拟的必做工作。
2012-05-04 16:28
光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的
2018-04-17 16:07
在半导体芯片制造设备中，投资最大、也是最为关键的是光刻机，光刻机同时也是精度与难度最高、技术最为密集、进步最快的一种系统性工程设备。光学光刻技术与其它
2018-04-10 11:26
双光子光刻技术能够精确制备三维结构，并将其精准集成在光电芯片上，能够在光纤-芯片以及芯片-芯片之间，构建大带宽、低损耗的光信号链路，实现光信号的高效互连，降低封装过程的对准精度，给光学芯片的封装过程带来了全新的机遇。
2023-11-06 14:36
。照明系统是光刻机的重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向，对照
2023-07-17 11:02
； ASML推出FPA2500，193nm波长步进扫描曝光机。光学光刻分辨率到达70nm的“极限”。 2000年以来，在光学光刻
2018-06-27 15:43
Technology，RET)的延伸，其关键技术主要包括光学成像物理仿真、光学邻近效应校正 (Optical Proximity Correction,OPC)、光源-掩模协同优化 (Source-Mask Optimization， SMO） 等。三种计算
2022-10-26 15:46
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造
2018-04-10 10:19
在万物互联，AI革命兴起的今天，半导体芯片已成为推动现代社会进步的心脏。而光刻(Lithography)技术，作为先进制造中最为精细和关键的工艺，不管是半导体芯片、MEMS器件，还是微纳光学元件都离不开光刻工艺的参与
2024-08-26 10:10
