光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
什么是近眼显示器？近眼显示有什么优势？照明方向如何影响光学布局和尺寸？为何为近眼显示器选择DLP技术？
2021-06-02 06:23
电子技术在绿色照明中的发展应用有哪些？电子技术应用于绿色照明会带来哪些惊喜？
2021-06-15 06:07
DLP技术正在成为舞台上名副其实的焦点。TI推出的全新光学参考设计表明，舞台照明在采用DLP技术后，仅使用一个DLP芯片组即可为舞台提供高达15,000流明的单色光，实
2019-08-13 07:16
本文将简要介绍Zigbee无线技术及其在照明应用中的使用。之后，本文将介绍多种开发工具和参考设计，让非专家级射频工程师不仅能够更轻松地建立无线照明网络，还能最大限度发挥
2021-01-05 06:30
屏下指纹解锁技术主要有光学指纹识别技术、超声波指纹识别技术等。目前，光学指纹解锁
2019-07-30 07:44
什么是光学模数转换器？光学模数转换器的主要技术指标光学模数转换器的研究进展光学模数转换器的应用
2021-04-20 06:52
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
作者：蓝牙技术联盟EMEA技术项目经理 Martin Woolley 小码哥在一座真正的智能楼宇中，照明可不仅仅是照明这
2019-07-23 07:57
