EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的
2021-07-29 09:36
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
`1、本视频主要介绍特殊封装制作方法2、介绍尺寸计算方法3、封装焊盘制作4、完成封装制作视频下载地址：https://p
2018-10-28 17:45
AD10 集成库的作用和制作视频（郭天祥）
2012-06-20 14:32
关于基于kl25z128芯片制作相关系统的学习视频资料，求大佬分享一下
2018-12-20 18:05
涂敷光刻胶 光刻制造过程中，往往需采用20-30道光刻工序，现在技术主要采有紫外线(包括远紫外线)为光源的光刻技术。光刻
2019-08-16 11:11
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分别采用了什么芯片？ 3协同通信的方式有哪些？ 4大数据及认知无线电（名词解释） 4半导体工艺的4个主要步骤： 4简叙半导体光刻技术基本原理 4给出4个全球著名的半导体设备制造商并指出其生产的设备核心技术：
2021-07-26 08:31
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2018-03-26 10:18
