光刻胶产品说明英文版资料分享。
2022-08-12 16:17
光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆
2011-03-09 16:43
为满足电磁型平面微电机对定子绕组线圈的高深宽比及厚度要求，提出一种利用AZ4903光刻胶制作电磁平面微电机定子绕组的方法。通过反复摸索，得到了该光刻胶的较理想_的转速一
2009-06-29 14:20
刻蚀•光刻就是在光刻胶上形成图形•下一步就是将光刻胶上的图形通过刻蚀转移到光刻胶下面的层上•刻蚀工艺分为湿法和干法
2010-06-21 17:29
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
光刻是集成电路工艺中的关键性技术。在硅片表面涂上光刻胶薄层，经过光照、显影，在光刻胶上留下掩模版的图形。
2021-04-09 14:27
本文主要介绍集成电路加工-光刻技术与光刻胶。集成电路加工主要设备和材料：光刻设备，半导体材料：单晶硅等，掩膜，化学品：光刻胶（光致抗蚀剂），超高纯试剂，封装材料及
2017-09-29 16:59
在晶圆制造的过程中，包括蚀刻、氧化、淀积、去光刻胶以及化学机械研磨等每一个步骤，都是造成晶圆表面污染的来源，因此需要反复地进行清洗
2021-04-09 14:07
液晶显示器制造工艺流程基础技术一．工艺流程简述：前段工位：ITO 玻璃的投入（grading） 玻璃清洗与干燥（CLEANING）涂光刻胶（PR COAT） 前烘烤（PREBREAK）曝光（DEVELO
2008-10-26 22:03
光刻的本质是把制作在掩膜版上的图形复制到以 后要进行刻蚀和离子注入的晶圆上。其原理与照相 相似，不同的是半导体晶圆与光刻胶代替了照相底 片与感光涂层。
2016-06-08 14:55
