，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的
2020-07-07 14:22
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上
2022-07-10 14:53
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
DUV已经能满足绝大多数需求：覆盖7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。duv的光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米。
2022-07-06 15:56
据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 14:39
高技术装备的使用，光刻机就是发展国产芯片的核心技术装备，国内有家公司将使用最先进的光刻机装备，钻研7nm制程的芯片制造。。 有些朋友会诧异，咱们国产芯片怎样会进展到
2018-10-05 08:16
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
芯国际已投产14nmFinFET工艺，上海华虹已投产28nm工艺，ASML此时表示可以向中国大量出售DUV光刻机，这有助于中国的芯片制造厂迅速扩张产能。 中国是全球最大
2020-11-09 11:40
作为半导体芯片生产过程中最重要的装备，光刻机一直牵动人心。事实上，制程工艺越先进就要离不开先进光刻机。
2020-07-07 16:25
1、IBM的2nm芯片，所有关键功能都是使用EUV光刻机进行刻蚀。而7nm芯片只有在芯片生产的中间和后端环节使用EUV光刻机
2022-07-05 17:26
