• 发文章

  • 发资料

  • 发帖

  • 提问

  • 发视频

创作活动
0
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
返回

电子发烧友 电子发烧友

  • 全文搜索
    • 全文搜索
    • 标题搜索
  • 全部时间
    • 全部时间
    • 1小时内
    • 1天内
    • 1周内
    • 1个月内
  • 默认排序
    • 默认排序
    • 按时间排序
大家还在搜
  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的

    2021-07-29 09:36

  • 光刻机

    和荷兰学习交流,学他的技术,当然要付出代价,比如财富和他想要的东西,真诚相待,会成功的,还可以引进的的人才和技术,在和他学艺,联姻,总之就是把技术学到手。

    2022-11-20 08:48

  • 半导体制造企业未来分析

    哪些市场信息? 晶圆代工厂不惜重金 在制造工艺演进到10nm之后,晶圆厂都在为摩尔定律的继续前进而做各种各样的努力,EUV则是被看作的第一个倚仗。而从EUV光刻机ASML的财务数据我们可以看到,其

    2020-02-27 10:42

  • 列数芯片制造所需设备

    光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。在高端光刻机上,除了龙头老大ASML

    2018-09-03 09:31

  • 一文带你了解芯片制造的6个关键步骤

    可以做到多小。在这个阶段,晶圆会被放入光刻机中(没错,就是ASML生产的产品),被暴露在深紫外光(DUV)下。很多时候他们的精细程度比沙粒还要小几千倍。光线会通过“掩模版”投射到晶圆上,光刻机的光学系统

    2022-04-08 15:12

  • 光刻工艺步骤

    一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下

    2021-01-12 10:17

  • EUV热潮不断 中国如何推进半导体设备产业发展?

    ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机(EUV)的

    2017-11-14 16:24

  • 光刻为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢?怎么避免呢?

    有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢

    2012-06-26 12:40

  • 全球进入5nm时代

    半导体制造设备,涉及的厂商主要有ASML、KLA、应用材料、中微半导体等,他们供应的光刻机、蚀刻等都是制造芯片的重要设

    2020-03-09 10:13

  • 半导体光刻蚀工艺

    半导体光刻蚀工艺

    2021-02-05 09:41