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  • 全球最先进的1nm EUV光刻机业已完成设计

    想想几年前的全球半导体芯片市场,真的可谓哀嚎一片,一时间摩尔定律失效的言论可谓此起彼伏。但是在今天,我们不仅看到5nm工艺如期而至,台积电宣布2nm获得重大进展,就连光刻机的老大ASML也传来捷报,全球最先进的

    2020-12-02 16:55

  • ASML完成制造1nm芯片EUV光刻机

    、1.5nm1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路线规划,且1nm时代的光刻机体积将增大不少。 据称在当前台积电、三星

    2020-11-30 15:47

  • 光刻机工艺的原理及设备

    越好,NA越大越好,这样光刻机分辨率就越高,制程工艺越先进。)  最初的浸入式光刻就是很简单的在晶圆光刻胶上加1mm厚的水,水可以把193

    2020-07-07 14:22

  • 据说1nm光刻机已经被设计出来了,预计2022年即可商用

    :5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,将应用于1nm光刻机,预计2022年即可商用。 责任编辑:xj

    2020-12-07 17:07

  • 光刻机是干什么用的

    的要求则反过来,我们要确保影像要绝对清晰,就要将对焦点落在光阻上,并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢?  所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内,是不是有点

    2020-09-02 17:38

  • 荷兰巨头1nm光刻机迎新突破,预计会在2022年实现商业化

        11月30日最新报道,近日荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)又送来一则好消息,该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。   据了解,先进制程的

    2020-12-09 09:35

  • duv光刻机和euv光刻机区别是什么

    光刻机和euv光刻机区别是是什么呢? duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25

    2022-07-10 14:53

  • 三星1nm时代光刻机体积将增加

    近日,在日本东京举办的ITF论坛上,与ASML合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程在微缩层面技术细节。

    2021-01-13 16:43

  • ASML已完成制造1nm芯片的EUV光刻机的设计方案

    本月中旬,在日本东京举办了ITF论坛。论坛上,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。

    2020-11-30 15:52

  • ASML已基本完成1nm光刻机设计

    公司研究概况,他强调通过与ASML公司紧密合作,将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。IMEC公司强调,将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。 包括日本在内的许多半导体公司相继退出了工艺小型化,声

    2020-12-01 09:54