想想几年前的全球半导体芯片市场,真的可谓哀嚎一片,一时间摩尔定律失效的言论可谓此起彼伏。但是在今天,我们不仅看到5nm工艺如期而至,台积电宣布2nm获得重大进展,就连光刻机的老大ASML也传来捷报,全球最先进的
2020-12-02 16:55
、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路线规划,且1nm时代的光刻机体积将增大不少。 据称在当前台积电、三星
2020-11-30 15:47
越好,NA越大越好,这样光刻机分辨率就越高,制程工艺越先进。) 最初的浸入式光刻就是很简单的在晶圆光刻胶上加1mm厚的水,水可以把193
2020-07-07 14:22
:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计,将应用于1nm光刻机,预计2022年即可商用。 责任编辑:xj
2020-12-07 17:07
的要求则反过来,我们要确保影像要绝对清晰,就要将对焦点落在光阻上,并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢? 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内,是不是有点
2020-09-02 17:38
11月30日最新报道,近日荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)又送来一则好消息,该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。 据了解,先进制程的
2020-12-09 09:35
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢? duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25
2022-07-10 14:53
近日,在日本东京举办的ITF论坛上,与ASML合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程在微缩层面技术细节。
2021-01-13 16:43
本月中旬,在日本东京举办了ITF论坛。论坛上,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。
2020-11-30 15:52
公司研究概况,他强调通过与ASML公司紧密合作,将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。IMEC公司强调,将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。 包括日本在内的许多半导体公司相继退出了工艺小型化,声
2020-12-01 09:54