半导体产业发展落后，这是已经形成的共识，也是以美国为首的西方国家打压我们的重点领域，因为被他们拿住了七寸，一时间，让不过人感觉我们的发展陷入了困境。
2020-03-19 11:21
和光刻胶： 光掩膜：如同芯片的蓝图，上面印有每一层结构的图案。 光刻机：像一把精确的画笔，能够引导光线在光刻胶上刻画出图案。 光刻胶：一种特殊的感光材
2025-01-28 16:36
光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11
光刻掩膜简介 光刻掩膜（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，通常简称“mask”，是半导体制造过程中用于图案转移的关键工具，对于光刻工艺
2025-01-02 13:46
我们芯片制造在哪些方面被人卡脖子？其实主要就在EAD软件、光刻机、光刻胶三个方面。其中，光刻机主要由荷兰控制生产，光刻胶由日本控制生产，真正完全属于美国的产品就是EAD
2021-05-02 13:21
光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19
SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个
2018-07-12 11:57
关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。 当然
2020-07-07 14:22
的耐蚀刻薄膜材料，经曝光和显影而使溶解度增加的是正性光刻胶，反之为负性光刻胶。光刻胶的分类及其特点见表1。 随着IC特征尺寸亚微米、深亚微米方向快速发展，现有的光刻机和
2018-08-23 11:56
Futurrex,成立于1985年，位总部设在美国新泽西州，富兰克林市。 公司业务范围覆盖北美、亚太以及欧洲。Futurrex在开发最高端产品方面已经有很长的历史，尤其是其光刻胶
2010-04-21 10:57
