光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式
2024-03-21 11:31
顶级光刻机有多难搞？ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极紫外光EUV光刻机举例，其内部精密零件多达
2020-07-02 09:38
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的
2017-12-19 13:33
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，
2018-04-08 16:10
荷兰ASML作为全球最大的光刻机制造商，占据了世界80%的市场份额。一台高端的光刻机内部零件高达10万件之多，但是其中的零件
2022-01-03 17:31
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
一台高端的光刻机由上万个零部件构成，光刻机的主要核心部件主要分为两个部分：分别是对准系统和紫外光源。
2022-01-03 17:09
实验、光学零件的抛光工艺 一。实验目的:1．掌握抛光的基本原理.2．了解镜片抛光过程。3．了解抛光加工的整个操作过程
2008-09-22 12:40
