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  • 光刻机工艺的原理及设备

    定想知道为啥同光源为什么可以衍生出这么多不同工艺节点,以Intel为,2000年用的是180nm,而现在已经是10nm了,其实光刻机决定了半导体工艺的制程工艺,光刻机

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

    光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可

    2020-09-02 17:38

  • 光刻机难度在哪里

    中国是目前世界上消费芯片最多的国家,每年的芯片进口额已超过了石油的进口额。虽然中国芯片行业也已经取得了小有成就,但在世界上还是处于落后的水平,芯片的落后少不了因为光刻机的原因,那么光刻机难度究竟在在哪里呢?

    2022-01-03 17:16

  • 光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻

    2025-01-16 09:29

  • 刻蚀机能替代光刻机

    刻蚀不能代替光刻机光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀高出很多,在需要光刻机

    2022-02-05 15:47

  • duv光刻机和euv光刻机区别是什么

    目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外

    2022-07-10 14:53

  • 文详解光刻机技术

    最近光刻机十分火,我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机,但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机,5纳米光刻机

    2020-10-19 11:42

  • 光刻掩膜版测温仪,光刻机曝光光学系统测温仪

    型号:GK-1000 品牌:

    GK-1000光刻掩膜版测温仪,光刻机曝光光学系统测温仪光刻机种用于微纳米加工的设备,主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS(微机电系统)等微细结构。

    2023-07-07 11:46 安徽鼎诺仪器科技有限公司 企业号

  • 光刻机制造难度有多大?

    据cnBeta、环球网、快科技等多家媒体证实,近日长江存储从荷兰阿斯麦(ASML)公司订购的光刻机已抵达武汉。这台光刻机价值高达7200万美元,约合人民币4.6亿元。

    2018-11-22 15:32

  • 光刻机原理介绍

    不会有我们现在的手机、电脑了。 光刻机是用于芯片制造的核心设备,按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机

    2021-07-07 14:31