翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
变压器饱容易产生饱和的原因及解决办法Vds的应力要求及降低要求IC温度过高的原因及解决办法
2021-03-11 06:24
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
怎样去选择STM32的三种启动方式呢？Flash锁死的解决办法是什么？
2022-01-18 07:11
当上传文件过大时，选择上传按钮会没有反应的解决办法？
2020-11-05 06:16
***画图编译原理图时出现的错误，求解决办法。
2017-03-30 21:53
previewer的input框无法输入内容这样不是对调试影响很大吗，请问有大佬知道有解决办法吗
2022-04-19 10:07
`请问BGA不饱满焊点的解决办法？`
2019-12-24 14:49
达人，您好！有什么解决办法吗？
2020-08-20 03:20
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
