翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
晶体管管芯的工艺流程？光刻的工艺流程？pcb制版工艺流程？薄膜制备工艺流程？求大佬解答
2019-05-26 21:16
摄像机的定焦和变焦镜头知识点，介绍的太仔细了
2021-06-03 06:14
MS41908M 网络摄像机·监控摄像机用镜头驱动芯片（内置光圈控制）MS41908M 是一款用于网络摄像机和监控摄像
2021-02-28 14:29
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
下图是 监控摄像机的自动光圈镜头的驱动电路。U12A是一个积分电路，输出驱动电压。阻尼正和阻尼负是接到U13A，阻尼线圈采样驱动线圈的电流。请问这里，是怎么样实现控制光圈的大小的状态？
2019-01-22 10:13
本帖最后由 zhaohanqing168 于 2016-10-1 13:15 编辑 本人有明基gh600相机，有新电池显示电压不足更换电池问题自己拆机，现在想知道镜头如何利用，比如外接电源直接使用相机马达电压多少；ccd如何使用，排线接口不懂，有高手请指教谢
2016-10-01 13:14
请问大佬们，视觉要求200mm*200mm，测量精度要求0.1mm的视觉系统应该选用何种规格的相机和镜头呀？我用的是NI视觉软件，多谢各位大佬指点！
2020-05-30 18:48
光刻法制作叉指电极，叉指电极的图案用什么软件绘制，以及是否有绘制教程，刚接触这个，也没有师兄，希望大佬来指导一下
2022-05-04 19:56
