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    2017-07-18 11:21

  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • 蓝牙在智能工业方面起到的作用

    夏季就要结束了,随着而来的是秋季里的活动热潮。像2018年Bluetooth World "蓝牙世界大会"和"汉诺威工业博览会"美国站这样的展会都是9月我们这儿的大活动。从会议议程就能看出,蓝牙在智能工业领域的兴起将成为热门话题。

    2020-08-12 07:20

  • FPGA厂商发展到了什么地步?

    中国国际医疗器械博览会的热度一年胜过一年,今年规模再创纪录。而同期举办的第三届中国国际医疗电子技术大会(CMET)则更是吸引了众多国际半导体公司参加,会议也由以前的一天变为两天。

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  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    2017-11-25 14:30

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    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

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    MS***监控摄像镜头驱动马达芯片 国产芯片对标哪款进口产品国产芯片必须实现换道超车 才能不被其他国家牵制,这款芯片对标的是哪个进口芯片,未来能够替代哪款进口芯片?

    2020-11-03 11:43

  • 5G承载网络需求与新技术进展

    近日在中国光谷”国际光电子博览会暨论坛(OVC EXPO2018)期间,“5G时代的信息通信产业高峰论坛”在中国光谷科技会展中心隆重举行。烽火通信技术专家马俊在现场发表了“5G时代的承载网络技术演进”的主题演讲,主要介绍了5G承载网络需求与新技术进展,以及烽火在5G承载领域的进展和5G承载网部署建议。

    2021-02-03 07:58

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    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47

  • 喷胶有什么典型应用 ?

    喷胶是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。

    2020-03-23 09:00