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  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶

    2019-11-07 09:00

  • 有什么典型应用 ?

    是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过

    2020-03-23 09:00

  • PCB工艺设计原理

    使用显影剂来清除,而变得坚硬的光刻胶依然保留,覆盖在部分通今属层的表面上; 5、露出来的铜层使用强酸性化学制剂去除,这个过程称为蚀刻; 6、清除剩下的光刻胶,剩下的就是铜金属层图案; 7、在电路板上

    2024-06-16 11:17

  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • ADI音效算法库

    不含源码,只是调用的库函数。包含些常用的音频算法库。压缩包内文件一览: 附件ADI算法参考.rar2.2 MB

    2018-10-17 15:19

  • 【下载】ADI 技术指南合集-电路仿真和PCB设计

    ) .............................................................................................126高速逻辑的处理 ..........................................................................

    2017-04-17 17:22

  • labview导出资讯的问题

    我用labview编了个跑马灯程式,怎么能把程式中的资讯导出来,譬如什么时候灯亮,什么时候灯灭,可以在个文件夹或者表格中一览无余。。。。谢了。。。。

    2013-03-06 16:35

  • 为什么你的示波器抓不到调试过程中的异常信号呢?

    如何让您在调试中异常信号一览无余呢?为什么你的示波器抓不到调试过程中的异常信号呢?

    2021-04-29 06:27

  • 双组份打的结构原理是什么?

    双组份涂胶由A、B泵、气动系统、升降机构、机架等组成。

    2019-10-30 09:00

  • PCB上这种指纹的图案露铜是怎么实现的?

    PCB上这种指纹的图案露铜是怎么实现的?

    2025-02-10 17:52