用滑动杆做为元素做了一个数组.做为显示控件,效果是：对输入的的数组先求出最大值,再将此值做为滑动杆的有效范围.最后以柱状显示输入数据的大小，如下图所示,问题是：在当前VI运行一切正常(如),但当做子vi被调用时,却出现问题.滑动杆的最大值出现错乱.此时若更改输入数据里的最大值,滑动杆的最大范围仍是是第一次运行的值,不会附输入的数据变化而变化.搞了好久都不行,附件是对应的vi。各位高手调用一个试试.有没有什么办法解决.
2015-06-08 11:24
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
本帖最后由 徐徐000 于 2016-1-26 23:21 编辑 我电力专业。想学习嵌入式，零基础。找哪家培训机构比较靠谱？将来就业和发展行情怎么样？求大神指教
2016-01-26 23:17
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
的，这种贴在半固化层和贴在基板上效果和过程一样吗？ 还有就是光刻胶的硬化和去除过程，光刻胶的正片和负片是什么意思？正片后的光刻胶已经硬化是用什么办法清除的？
2024-06-16 11:17
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
我是事业单位一名普通的员工，在中国股市开发初期的90年代，20岁刚出头的我就毅然投身股海，从最早的深发展和万科就开始排号抽签了；从最初的用黑板报价到股票机再到电话委托再到电脑委托，可以说我是中国股市
2016-03-07 10:09
