摩尔定律 Intel创始人之一摩尔1964年提出，大约每隔12个月： 1）。芯片能力增加一倍、芯片价格降低- -倍; 2）。广大用户的福音、行业人员的噩梦。 芯片集成密度不断提升、光刻分辨率的不断提升！
2022-08-29 14:20
光刻与光刻机 ➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。 ➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。
2023-12-19 09:28
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、
2017-12-19 13:33
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位，并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机：芯片制造的关键角色
2024-11-24 09:16
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
2024-01-29 09:37
导读：光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。 光刻机
2022-12-23 13:34
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。
2020-10-16 10:33
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
是的！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相。机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上， 如此便可把被
2022-11-21 10:03
