翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
`别人总是给我说单片机驱动太小，输出电流太小，51只有20mA。但是当51引脚外接输出高电平时，外部电压为5V，电流不是由外部电阻决定的吗，为什么受单片机驱动电流的限制
2018-09-16 09:34
请问CC2530，不加PA放大，通信距主要是受什么所限制，是天线还是布板呢？还有zigbee组网通信的时候，听说数据传递的跳转次数也有限制，不知道这个又是受什么
2016-03-15 16:15
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
如何解决激光测距机受位置和天气条件的限制？
2021-04-09 06:15
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
之前用过ESP8266，串口转wifi芯片，发现数据传输速度受波特率限制即受串口速度限制，刚刚看到发烧友的ATK-RM04系列的wifi模块，碰巧学习了SPI转以太网模
2020-04-01 21:45
单片机学习板烧录程序受不受系统限制,家庭普通版的能装上驱动不呢？
2012-07-12 22:48
使用AD5791将单片机计算的数字信号转模拟，模拟信号输出电平范围为0-10V，之前测到的输出精度能够到0.1mv（受测量仪器精度所限），现在输出的
2018-09-11 10:53
