EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...
2021-07-29 09:36
近日,SIA发了个耸人听闻的新闻,说intel放弃了10nm工艺的研发,当然这肯定是假消息就是了,今天intel也出面辟谣。不过相信很多人也会觉得奇怪,那边TSMC 7...
2021-07-26 08:10
和荷兰学习交流,学他的技术,当然要付出代价,比如财富和他想要的东西,真诚相待,会成功的,还可以引进的的人才和技术,在和他学艺,联姻,总之就是把技术学到手。
2022-11-20 08:48
%,Lam Research为10亿美元,占台积电采购额的9%,迪恩士占5%,KLA占4%。ASML目前,全球仅有ASML一家公司掌握着EUV光刻机的核心技术,这也是5nm制程必需的设备,但EUV
2020-03-09 10:13
的宽度,也被称为栅长。栅长越短,则可以在相同尺寸的硅片上集成更多的晶体管。目前,业内最重要的代工企业台积电、三星和GF(格罗方德),在半导体工艺的发展上越来越迅猛,10nm制程才刚刚应用一年半,7n...
2021-07-29 07:19
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下
2021-01-12 10:17
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
哪些市场信息? 晶圆代工厂不惜重金 在制造工艺演进到10nm之后,晶圆厂都在为摩尔定律的继续前进而做各种各样的努力,EUV则是被看作的第一个倚仗。而从EUV光刻机ASML的财务数据我们可以看到,其
2020-02-27 10:42
1、产品:LDI数字光刻机,10微米—50微米线宽线路最优选择,适用于内外层制程2、支持电路板尺寸:200*200—630*810(微米)3、支持电路板厚度:0.03—5(微米)4、最高产能可达
2021-05-19 16:09