十六分之一后成像（影像复制）在预涂光阻层的晶员（wafer）上。 对比相机和光刻机，被拍摄的物体就等同于微影制程中的光罩，聚光镜就是单反镜头，而底片（感光元件）就是预涂光阻层的晶圆。 是的
2020-09-02 17:38
定想知道为啥同一光源为什么可以衍生出这么多不同工艺节点，以Intel为例，2000年用的是180nm，而现在已经是10nm了，其实光刻机决定了半导体工艺的制程工艺，光刻机的精度
2020-07-07 14:22
如题，HX711模块能实现万分之一精度吗？怎么写处理程序呢？
2017-04-07 16:56
，给数据寄存器写入满偏值(0xFFFF)，实际输出只有19.95mA，无法满足千分之一的精度要求，请问此种情况时AD的设计缺陷吗？还是通过什么方式可以校准
2023-11-23 06:35
，但是由于面板光刻机针对的是薄膜晶体管，芯片光刻机针对的是晶圆，面板光刻机精度要求远低于芯片光刻机，只要达到pm级别即可
2025-01-16 09:29
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。
2022-02-05 16:03
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机
2022-02-05 15:47
不会有我们现在的手机、电脑了。 光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。
2021-07-07 14:31
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
