翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
换能器的输出怎么测水平和垂直的
2015-10-20 17:50
本文详细阐述了在嵌入式系统开发中嵌入式处理器、嵌入式操作系统、调试器、仿真器以及开发人员的技术水平和结构比例等组成要素的选择原则，并且使用一个具体的实例来进一步分析说明。
2021-04-28 06:26
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
传感器和仪表元器件是仪器仪表与自动化系统最基础元器件之一。传感器和仪表元器件具有服务面广、品种繁多、需求量大等特点，其技术水平和产品质量的提高，将为我国制造业信息化奠定基础。
2019-09-23 06:34
CMOS电平和TTL电平的区别
2021-04-06 09:52
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻
2019-11-07 09:00
(hItem,1); LISTVIEW_SetFixed(hItem,2); LISTVIEW_SetFixed(hItem,3);问题二：如何加listview宽水平和垂直的滚动条，像图3DROPDOWN一样宽的下拉滚动条我尝试过改变数据字体，但没有效果
2019-09-19 01:42
上世纪90年代出现的在系统可编程模拟器件，在2007年以后就几乎销声匿迹了，从理论上讲，这应该是一个不错的技术发展方向，是否是因为当前的技术水平的缺陷呢？有没有高手能够解答？
2013-11-28 21:44
角度测量时，应用角度传感器怎么考虑水平和垂直的问题呀！！！火大
2014-03-19 15:43
