EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
和荷兰学习交流，学他的技术，当然要付出代价，比如财富和他想要的东西，真诚相待，会成功的，还可以引进的的人才和技术，在和他学艺，联姻，总之就是把技术学到手。
2022-11-20 08:48
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分别采用了什么芯片？ 3协同通信的方式有哪些？ 4大数据及认知无线电（名词解释） 4半导体工艺的4个主要步骤： 4简叙半导体光刻技术基本原理 4给出4个全球著
2021-07-26 08:31
的韦亚一研究员及其团队具有多年的学术界及工业界的光刻技术经验积累，并出版有多本专著，其中《计算光刻与版图优化》一书更是列入中国科学院大学研究生教学辅导书系列。本号获授权
2021-10-14 09:58
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40
2020年全球十大突破技术，2018-12-28 08:11:39盘点这一年的核心技术：22纳米光刻机、450公斤人造蓝宝石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾构机“
2021-07-28 09:17
从Intel和ARM争霸战, 看看做芯片到底有多难
2020-05-25 13:55
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
1、产品：LDI数字光刻机，10微米—50微米线宽线路最优选择，适用于内外层制程2、支持电路板尺寸：200*200—630*810（微米）3、支持电路板厚度：0.03—5（微米）4、最高产能可达
2021-05-19 16:09
