GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。
2023-07-07 11:46 安徽鼎诺仪器科技有限公司 企业号
基础工艺流程: 显影槽→QDR 显影槽→QDR 设备类型： 手动/半自动/全自动（定制） Footprint : 1500 (W
2022-12-15 13:06 苏州清芯卓半导体设备有限公司 企业号
;基础工艺流程: KOH→HQDR KOH→QDR H2SO4→QDR 设备类型： 手动/半自动（定制） Footprint : 2000 (W)
2022-12-15 13:03 苏州清芯卓半导体设备有限公司 企业号
基础工艺流程: SPM→HQDR→SC-1→QDR→SC-2→QDR→DHF→QDR→IPA（可增减） 设备类型： 手动/半自动/全自动（定制）
2022-12-09 17:16 苏州清芯卓半导体设备有限公司 企业号
晶片规格： 2-8〞wafer 主要材料: 金属骨架+PP/PVC壳体，槽体材质PP/PVDF/PTFE /石英 工艺槽功能： 循环过滤+加热冷却 基础工艺流程
2022-12-15 13:22 苏州清芯卓半导体设备有限公司 企业号
