本文以光刻机为中心,主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及
2017-12-19 13:33
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位,并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机:芯片制造的关键角色
2024-11-24 09:16
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
导读:光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术,在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术。 光刻机
2022-12-23 13:34
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。
2020-10-16 10:33
目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
是的!光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相。机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上, 如此便可把被
2022-11-21 10:03
光刻机的原理是接近或接触光刻,通过无限接近,将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上,通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影
2022-07-10 15:28
光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中,光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
2024-01-29 09:37
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29