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型号:GK-1000 品牌:
光刻胶(光敏胶)进行光刻,将图形信息转移到基片上,从而实现微细结构的制造。光刻机的工作原理是利用光学系统将光线聚焦到光刻
2023-07-07 11:46 安徽鼎诺仪器科技有限公司 企业号
型号:SJ6000 品牌:中图仪器
光刻机的工作台是一个六自由度的运动台,其中X/Y向运动台是的核心基础工序。管控XY轴角度Yaw和Pitch,直线度Horizontal Straightness和Vertical
2023-02-20 15:49 中图仪器 企业号
型号:ZEL304G 品牌:泽攸科技
泽攸科技ZEL304G电子束光刻机(EBL)是一款高性能、高精度的光刻设备,专为半导体晶圆的高速、高分辨率光刻需求设计。该系统采用先进的场发射电子枪,结合一体化的高速图形发生系统,确保
2025-08-15 15:14 泽攸科技 企业号
型号:ZML 品牌:泽攸科技
泽攸科技ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备,专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源,并结合先进的DLP技术,实现了黄光或绿光引导曝光功能,真正做到
2025-08-15 15:11 泽攸科技 企业号
型号:SuiJiAi-SJPC01 品牌:燧<b class='flag-s-7'>机</b>科技
ai行为识别技术监控系统软件是一种以行为识别技术为关键技术的深度学习算法,根据人工智能化神经元网络,构造大家的主要模块架构,ai行为识别技术监控 依据我们的轨迹测算各种
2024-07-15 22:07 燧机科技 企业号
中图仪器SJ6000高端激光干涉测量仪可以实现线性、角度、直线度、垂直度、平面度等几何量的检测,结合软件系统,可以用于速度,加速度,振动分析以及稳定度等分析。仪器以干涉技术为核心,其光波可直接对米
2023-02-24 16:53 中图仪器 企业号
型号:rcacsqxj 品牌:
性能,成为晶圆表面处理的核心装备。本文将深入解析其工作原理、核心特点及行业价值,揭示这款经典设备如何助力先进制程突破技术瓶颈。一、溯源与基础架构:标准化与模块化的典范R
2025-08-18 16:45 芯矽科技 企业号
型号:AWB 品牌:
在半导体制造流程中,单片晶圆清洗机是确保芯片良率与性能的关键环节。随着制程节点迈向纳米级(如3nm及以下),清洗工艺的精度、纯净度与效率面临更高挑战。本文将从技术原理、核心
2025-05-12 09:29 芯矽科技 企业号
型号:dpqxj 品牌:
在半导体制造工艺中,单片清洗机是确保晶圆表面洁净度的关键设备,广泛应用于光刻、蚀刻、沉积等工序前后的清洗环节。随着芯片制程向更高精度、更小尺寸发展,单片清洗机的
2025-06-06 14:51 芯矽科技 企业号
型号:TGA2700 <b class='flag-s-7'>关键</b>性能 品牌:
pHEMT技术标称偏置9V@300 mA、225 mAQorvo的TGA2700是一款工作在7-13 GHz之间的X波段驱动放大器。驱动放大器采用Qorvo久经考验的
2024-03-22 00:25 深圳市华沣恒霖电子科技有限公司 企业号