翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
当我主机连接三个从机后，三个从机同时上报数据，如何区分是哪个从机发送的数据，我现在读取pMsg->msg.hand
2022-07-28 07:18
EMC的建议；我们认为EMC改进要如诊治疾病一样对症施治；我们倡导坚持EMC规律，趁早考虑和解决EMC问题-进行EMC设计。下面我们认识以下EMC领域的三个要素和三个重要规律：
2019-07-24 08:18
LDO调节器的三个重要极点是什么？如何选择一个具有正确ESR量的电容器？
2021-04-08 06:35
51单片机用三个开关控制三个直流电机要做到现先启动先停止
2023-10-26 06:09
系统在共同的电磁环境条件下，既不受电磁环境的影响，也不会给环境以干扰。下面我们认识以下EMC领域的三个重要规律和EMC问题三个要素：
2021-01-27 06:17
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过
2020-03-23 09:00
是柔软的，经过高温和增压处理后会变得很坚硬，多层板排列的芯板和半固化片部分称之为电路板的叠层。 看下面多层板的分布，是一个八层板，使用三个双层板用半固化片构成的，顶层和底层两个层是贴在半固化片的表面
2024-06-16 11:17
怎么实现一个服务器三个客户端的tcp通信 用四个电脑 一个做服务机 另外三个
2018-04-15 15:39
