翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
不知怎么回事 用stm32单片机控制PWM输出来驱动LED光源 当光源亮度低时 光源亮度不稳定 会有轻微抖动 求解！！！
2013-07-10 17:33
请问点光源检测的模块怎么做?基于单片机的
2019-03-05 13:57
不知怎么回事 用stm32单片机控制PWM输出来驱动LED光源 当光源亮度低时 光源亮度不稳定 会有轻微抖动 求解！！！
2013-05-16 16:35
光刻胶的光敏材料； 2、光电绘图仪使用光源有选择性地对部分光刻胶进行曝光； 3、曝光后光刻胶的化学特性发生变化，光刻胶是
2024-06-16 11:17
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
阻碍LED光源迅速开拓车用市场的不利因素是什么？LED光源的车用优势有哪些？
2021-05-17 06:53
给位，谁知道怎么用labview实现对LED线性光源亮灭的控制啊？
2017-06-07 12:03
光刻法制作叉指电极，叉指电极的图案用什么软件绘制，以及是否有绘制教程，刚接触这个，也没有师兄，希望大佬来指导一下
2022-05-04 19:56
